0.1 μm线宽主流光刻设备——193 nm(ArF)准分子激光光刻

• 作者: 刘业异 姚汉民 胡松 陈兴俊
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光学光刻 光刻设备 193 nm光刻
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 论文·研制报告
• 页码范围: 27-31
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 6226字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2002.01.008

摘要

阐述了可实现0.1 μm线宽器件加工的几种候选光刻技术,对193 nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述,指出其在0.1 μm技术段的重要作用,并提出了研制193 nm(ArF)光刻设备的一些设想.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
2	姚汉民	中国科学院光电技术研究所	44	355	9.0	16.0
3	陈兴俊	中国科学院光电技术研究所	6	42	4.0	6.0
4	刘业异	中国科学院光电技术研究所	13	173	7.0	13.0