优化抗蚀剂的预烘工艺减小衍射对X射线光刻的影响

• 作者: 康士秀
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 抗蚀剂 衍射 X光刻
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 光学工艺
• 页码范围: 52-53,56
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7|O434.1
• 字数: 1788字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2002.01.010

摘要

讨论了衍射效应在微米/纳米X射线光刻中对分辨率的影响和抗蚀剂的预烘温度与其衬度的关系.分析发现增加抗蚀剂的衬度能有效地提高工艺的容裕度, 减小衍射作用.实验表明,在预烘温度为170 ℃时,正性抗蚀剂PMMA有最高的衬度为4.46, 负性抗蚀剂PN114在预烘温度为115 ℃时有最高的衬度为8.40.给出了最佳预烘温度下使用两种抗蚀剂的X射线光刻的实验结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	康士秀	中国科技大学天文与应用物理系	6	11	2.0	3.0