CCD多晶硅栅条刻蚀的质量控制

• 作者: 张坤 李平 汪朝敏
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: CCD 刻蚀比 均匀性
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 210-211，214
• 页数: 3页
• 分类号: TN405.982
• 字数: 1438字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2002.03.017

摘要

依据等离子刻蚀机设备在CCD 研制中所起的关键作用,对提高刻蚀多晶硅电极的质量作了一些探讨,并给出了解决办法和结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李平		6	45	4.0	6.0
2	张坤		12	64	6.0	7.0
3	汪朝敏		9	12	2.0	3.0