大型硅晶片平面度精密纳米计量技术

• 作者: Furukawa Masaru Kiyono Satoshi Nakamuba Tomohisa Shimizu Hiroki Yamada Tomohiko 高伟
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 测量 平面度 硅晶片斜率传感器 光学传感器 自准直 现场标定
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 精密测量
• 页码范围: 71-78
• 页数: 8页
• 分类号: TG8
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2003.01.012

摘要

描述了一种基于斜率传感器的大型硅晶片平面度扫描测量系统.采用二维斜率传感器对晶片表面扫描,以获得表面绕X和Y轴的倾斜度.斜率传感器装在X向滑板上,而晶片固定在可绕Z 轴转动的主轴上.对斜率传感器Y向的输出积分,得到晶片表面各个同心圆上轮廓截面高度.对斜率传感器X向的输出积分,得到晶片表面沿X向的截面轮廓,从而获得各同心圆轮廓之间的关系.构建了一个包括基于自准直原理的小型斜率传感器、气浮主轴、气浮导轨的实验系统,提出一种斜率传感器现场标定方法.用此系统测量了直径300 mm的硅晶片平面度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高伟	日本东北大学机械电子与精密工程系	1	3	1.0	1.0
2	Yamada Tomohiko	日本东北大学机械电子与精密工程系	1	3	1.0	1.0
3	Furukawa Masaru	日本东北大学机械电子与精密工程系	1	3	1.0	1.0
4	Nakamuba Tomohisa	日本东北大学机械电子与精密工程系	1	3	1.0	1.0
5	Shimizu Hiroki	日本东北大学机械电子与精密工程系	1	3	1.0	1.0
6	Kiyono Satoshi	日本东北大学机械电子与精密工程系	1	3	1.0	1.0