采用正交法研究金刚石偏压形核

• 作者: 吴素娟 康志成 汪建华 满卫东 王传新 王升高 马志斌
• 来源期刊: 材料开发与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 正交试验 金刚石 形核
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 6-8,30
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.1+8
• 字数: 1832字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1545.2003.02.003

摘要

在微波等离子体化学气相沉积装置中,采用正交试验法研究金刚石在镜面抛光的Si(100)面上的偏压形核过程中,形核时间、偏压电压、气压及甲烷浓度对形核密度的影响,研究结果表明:形核密度随形核时间的增加而增加,适中的偏压电压和沉积气压有利于金刚石的形核,而甲烷浓度的影响很小.正交试验所得的最佳形核条件为偏压-150V;时间12min;气压4kPa;CH4比率5%,在该条件下金刚石的形核密度达到1010个/cm2.