脉冲偏压电弧离子低温沉积TiN硬质薄膜的力学性能

• 作者: 孙超 林国强 董闯 闻立时 黄美东
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 低温沉积 脉冲偏压 TiN薄膜
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 页码范围: 516-520
• 页数: 5页
• 分类号: TB43|TG115.22
• 字数: 3604字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2003.05.010

摘要

利用直流和脉冲偏压电弧离子镀技术沉积TiN硬质薄膜,研究了不同偏压下基体的沉积温度、薄膜的表面形貌及力学性能.结果表明,与直流偏压相比,脉冲偏压可以明显降低基体的沉积温度,大大减少薄膜表面的大颗粒污染,改善表面形貌,而薄膜的综合力学性能仍保持良好,说明利用脉冲偏压技术是实现电弧离子镀低温沉积的有效途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董闯	大连理工大学三束实验室	198	2023	23.0	34.0
2	孙超	中国科学院金属研究所	126	1708	23.0	34.0
3	闻立时	中国科学院金属研究所	117	1859	24.0	36.0
4	林国强	大连理工大学三束实验室	59	562	13.0	21.0
5	黄美东	中国科学院金属研究所	6	213	5.0	6.0