光刻机的演变及今后发展趋势

• 作者: 李艳秋
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 下一代光刻机 极紫外光刻 电子束曝光 微电子技术
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1-5,11
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3642字
• 语种: 中文

摘要

微电子技术的发展一直是光刻设备和技术发展与变革的动力。通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，结合比较极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来以极紫外光刻机、电子束曝光机和某种常规光刻机结合，来实现工业需要的各种图形的制备。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李艳秋	中科院电工所	2	105	1.0	2.0