氧化钒薄膜的制备及其光电特性研究

• 作者: 易新建 李雄伟 王宏臣 陈四海 黄光
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜技术 氧化钒薄膜 温度相变特性 光电特性 微光开关
• 年，卷（期）: 2003,（12）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1107-1110
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1|O484.4+1|O484.4+2
• 字数: 2681字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2003.12.013

摘要

采用一种新工艺在Si和Si3N4衬底上制备了性能优良的氧化钒薄膜,并对其微观结构和光电特性进行了研究.测试结果表明采用新工艺所制备的氧化钒薄膜在相变前后电阻率变化达到3个数量级,红外透过率在相变前后改变达到60%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄光	华中科技大学图像识别与人工智能教育部重点实验室	10	144	7.0	10.0
2	易新建	华中科技大学光电子工程系	102	1261	21.0	29.0
6	陈四海	华中科技大学光电子工程系	46	459	12.0	18.0
7	王宏臣	华中科技大学光电子工程系	7	124	6.0	7.0
8	李雄伟	华中科技大学光电子工程系	3	65	3.0	3.0