扫描速率对硅表面分子沉积膜纳米摩擦特性的影响

• 作者: 张嗣伟 聂时春 高芒来
• 来源期刊: 化学研究与应用
• 学科: 化学
• 关键词: 扫描速率 硅表面 分子沉积膜 纳米摩擦特性 磺化酞菁铜
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 新技术与应用
• 页码范围: 734-736
• 页数: 3页
• 分类号: O613.72
• 字数: 1425字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1656.2003.05.047

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	聂时春		5	31	3.0	5.0
2	张嗣伟	石油大学机电学院	47	541	14.0	21.0
3	高芒来	石油大学化工学院	18	208	9.0	14.0