激光直写制作二元光学元件掩模研究

• 作者: 刘宏开 王多书 罗崇泰 马勉军 黄良甫
• 来源期刊: 应用激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光直写 二元光学元件掩模 铬版
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 213-216
• 页数: 4页
• 分类号: TN2
• 字数: 2002字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-372X.2004.04.007

摘要

介绍了激光直写技术制作二元光学元件铬版掩模的原理,分析了影响铬版上铬膜氧化程度的因素,研究了铬版上刻写掩模图案时激光能量与刻写半径之间的关系,总结了利用激光直写方法刻写二元光学元件铬版掩模过程中激光能量的形成方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马勉军		23	166	8.0	11.0
2	黄良甫		19	225	9.0	14.0
3	罗崇泰		31	224	9.0	13.0
4	刘宏开		13	116	6.0	10.0
5	王多书		26	207	9.0	13.0