用于化合物半导体制造的先进光刻技术

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻技术 化合物半导体 薄形衬底
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 工艺与技术
• 页码范围: 56-58
• 页数: 3页
• 分类号: TN350.7
• 语种: 中文

摘要

重点讨论了化合物半导体材料加工中的先进光刻技术应用现状.薄形衬底材料在高频及功率器件中的需求,在处理非常易碎和昂贵的衬底时出现了一些新的问题.这种损伤的风险由于要求的多个加工工序而增大,且在接转生产的采用背面加工时会再次出现.叙述了进行自动光刻加工中片子传递和对准过程的一些解决方法.