改善MEMS闪耀光栅衍射效率的研究

• 作者: 吴亚明 李四华 韩晓峰
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 闪耀光栅 各向异性腐蚀 表面抛光 氧化削尖
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 光通信
• 页码范围: 24-27,37
• 页数: 5页
• 分类号: O436.1
• 字数: 3409字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2004.05.008

摘要

研究了在硅材料上利用MEMS (Micro-Electro-Mechanical System)的各向异性腐蚀技术制备闪耀光栅.采用氧化削尖工艺去除光栅制备过程中掩膜在闪耀面上留下的平台,得到一个连续的闪耀面;同时对闪耀面进行表面抛光,改善闪耀面的粗糙度,减小对入射光的散射.理论分析和实验测试证明,该工艺方法能够将MEMS闪耀光栅的衍射效率提高10%左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李四华	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	8	64	5.0	8.0
2	吴亚明	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	35	193	9.0	11.0
3	韩晓峰	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	2	17	2.0	2.0