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摘要:
用直流磁控溅射的方法在室温Si基片上制备体积百分比分别为5%,10%,20%,40%的系列Ni-Cu磁性复合团簇镶嵌薄膜样品,并利用X射线衍射技术、振动样品磁强计等方法对团簇的微结构和磁性能进行了测试研究.微结构分析表明:薄膜呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方,随着Ni组份的增加,复合团簇膜的晶粒尺寸与平均晶格常数均减小.磁性分析表明:所有样品均表现出铁磁性,随着Ni百分比含量的增加,矫顽力Hc减小,饱和磁化强度MS增加,磁性逐渐增强,且尺寸效应明显.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 NixCu1-x复合团簇镶嵌薄膜的微结构和磁特性
来源期刊 安徽大学学报(自然科学版) 学科 物理学
关键词 Ni-Cu镶嵌团簇膜 微结构 磁性
年,卷(期) 2004,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 34-39
页数 6页 分类号 O484.4
字数 2483字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-2162.2004.02.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 宋学萍 安徽大学物理系 63 367 10.0 14.0
2 孙兆奇 安徽大学物理系 91 563 11.0 16.0
3 金震 安徽大学物理系 2 4 2.0 2.0
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Ni-Cu镶嵌团簇膜
微结构
磁性
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期刊影响力
安徽大学学报(自然科学版)
双月刊
1000-2162
34-1063/N
大16开
安徽省合肥市
26-39
1960
chi
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