MOCVD法氧化锌单晶薄膜生长

• 作者: 刘博阳 刘大力 张源涛 杜国同 杨小天 杨树人 赵佰军 高锦岳
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锌 金属有机化学气相沉积 薄膜 生长
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 99-102
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1|O484.4
• 字数: 2006字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2004.02.005

摘要

介绍了氧化锌材料的一些突出特性以及生长氧化锌的方法.并通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法制备了优良的氧化锌薄膜.使用X射线衍射(XRD)谱和室温光致发光(PL)光谱对所生长氧化锌薄膜的晶体质量和光学特性进行了研究. X射线衍射谱图显示仅在2θ=34.72 °处有一个很陡峭的ZnO (002) 晶面衍射峰,说明所制备的氧化锌薄膜c轴取向高度一致.此衍射峰的半高宽为0.282 °,显示出较好的晶体质量.在室温光致发光谱中, 薄膜的紫外发光强度与深能级复合发光的强度比超过10∶1,表明薄膜的光学质量较高.