不同氧气分压下的MOCVD法氧化锌薄膜生长

• 作者: 唐魏 杨佳 杨小天 王超 赵春雷 高晓红
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化锌 薄膜 MOCVD
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 706-708
• 分类号: TN304.2+1
• 字数: 1094字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2010.05.020

摘要

采用金属有机化学气相沉积方法,在不同氧气分压下,对硅衬底氧化锌薄膜材料生长做了研究.X-射线衍射方法对氧化锌薄膜的结晶质量做了比对测试.测试结果表明薄膜是沿着(002)方向生长.利用光荧光谱测试分析,对薄膜的发光特性做了研究,研究发现随着氧气分压增大,薄膜的紫外发光峰增强.通过原子力显微镜测试,对薄膜的表面形貌做了观察,发现结晶颗粒的平均粗糙度、均方根,以及平均直径随着氧气分压的增大呈现逐渐变小的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨佳	吉林建筑工程学院电气与电子信息工程学院	36	50	4.0	6.0
2	杨小天	吉林建筑工程学院电气与电子信息工程学院	36	115	5.0	9.0
3	赵春雷	吉林建筑工程学院电气与电子信息工程学院	7	9	2.0	2.0
4	王超	吉林建筑工程学院电气与电子信息工程学院	37	82	4.0	8.0
5	高晓红	吉林建筑工程学院电气与电子信息工程学院	34	266	4.0	16.0
6	唐魏	吉林建筑工程学院电气与电子信息工程学院	1	0	0.0	0.0