磁控溅射离子束流密度的研究

• 作者: 徐均琪 杭凌侠 蔡长龙
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射(MS) 非平衡磁控溅射(UBMS) 离子束流密度 工艺参数
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 74-76
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2308字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.01.019

摘要

磁控溅射镀膜技术由于具有显著的优点而得到了广泛的应用.磁控溅射离子束流密度的大小及分布状况,直接决定着薄膜质量的优劣.本文通过对比研究了普通磁控溅射(MS)和非平衡磁控溅射(UBMS)两种工作模式下,氩气流量、负偏压等工艺参数对离子束流密度大小的影响,测试了基片架附近的离子密度,分析讨论了测试结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐均琪	西安工业学院光电工程学院	87	611	13.0	20.0
2	杭凌侠	西安工业学院光电工程学院	93	777	15.0	22.0
3	蔡长龙	西安工业学院光电工程学院	82	319	8.0	14.0