WOx:Mo薄膜的结构及电致变色性能研究

• 作者: 吕佳 施萍萍 黄佳木
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 掺杂氧化钨 钼掺杂 非晶态薄膜 电致变色 反应磁控溅射
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 页码范围: 580-584,589
• 页数: 6页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 4423字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0454-5648.2004.05.009

摘要

采用反应磁控溅射工艺,以纯钨和纯钼为靶材在ITO玻璃上制备Mo掺杂WOx电致变色薄膜,用薄膜的透射光谱和XRD衍射方法对掺杂后薄膜的电致变色性能和结构进行了分析,研究了Mo掺杂对WOx薄膜电致变色性能和微观结构的影响机理.实验结果表明:在一定掺杂范围内,Mo掺杂对薄膜电致变色性能有较大提高;掺杂越均匀,对薄膜电致变色性能的改善越显著.影响薄膜电致变色性能的相应掺杂量由溅射时间表示,相对掺量存在最佳值,即7.7%附近,薄膜的变色性能可得到最大的提高,按实验结果趋势分析掺杂量存在有效范围,超出有效掺杂范围,掺杂便会失效.XRD分析表明,掺杂Mo之后的WOx薄膜仍为非晶态,且非晶态有增强的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄佳木	重庆大学材料学院	84	690	13.0	20.0
2	施萍萍	重庆大学材料学院	3	32	3.0	3.0
3	吕佳	重庆大学材料学院	7	50	3.0	7.0