等离子辅助镀膜技术在优质高产的镀膜系统中的应用

• 作者: 哈哥顿哈洛
• 来源期刊: 光学仪器
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子辅助沉积 溅射镀膜 光学镀膜
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 沉积技术与控制方法
• 页码范围: 71-75
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2923字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5630.2004.02.015

摘要

大规模生产高质量薄膜产品是今后镀膜设备需要解决的问题.等离子体或离子辅助镀膜现在被广泛应用于高质量膜系生产中并取得了良好的效果,但是主要由于等离子体或离子源的原因,产能不高.介绍了一种新型精密光学镀膜系统和一种新型溅射镀膜系统.新的系统能够优质高效地生产复杂膜系,特别适合大规模生产.