IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究

• 作者: 吴纬国 赵建明 马万里
• 来源期刊: 半导体行业
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻对准 工艺层 集成电路 光刻工艺 隔离技术
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 分类号: TN405
• 语种: 中文

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴纬国	电子科技大学微电子与固体电子学院	4	47	3.0	4.0
2	赵建明	电子科技大学微电子与固体电子学院	26	172	7.0	12.0
3	马万里	电子科技大学微电子与固体电子学院	3	17	2.0	3.0