脉冲激光退火纳米碳化硅薄膜的拉曼散射研究

• 作者: 于威 何杰 傅广生 孙运涛 朱海丰 韩理
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 化学
• 关键词: 薄膜物理学 拉曼散射 晶化 激光退火 碳化硅
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 光束传输与控制,材料、薄膜及元器件
• 页码范围: 513-515
• 页数: 3页
• 分类号: O657.37
• 字数: 2220字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.z1.170

摘要

采用XeCl准分子激光实现了碳化硅薄膜的脉冲激光晶化,对退火前后薄膜样品拉曼散射谱特征进行了分析,探讨了激光能量密度对纳米碳化硅薄膜结构和物相特性的影响.结果显示晶态纳米碳化硅薄膜的拉曼散射峰相对体材料的特征峰显著宽化和红移,并显示了伴随退火过程存在着硅和碳的物相分凝现象.随着激光能量密度的增大,薄膜的晶化度提高,晶化颗粒增大,而伴随的分凝程度逐渐减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩理	河北大学物理科学与技术学院	39	204	8.0	11.0
2	傅广生	河北大学物理科学与技术学院	184	817	13.0	17.0
3	于威	河北大学物理科学与技术学院	91	346	9.0	13.0
4	何杰	河北大学物理科学与技术学院	5	37	4.0	5.0
5	孙运涛	河北大学物理科学与技术学院	6	42	4.0	6.0
6	朱海丰	河北大学物理科学与技术学院	6	28	3.0	5.0