碳化硅薄膜脉冲激光晶化特性研究

• 作者: 于威 何杰 傅广生 孙运涛 朱海丰 韩理
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光退火 晶化 碳化硅
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 1930-1934
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2480字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.06.058

摘要

采用XeCl准分子激光对非晶碳化硅(a-SiC)薄膜的脉冲激光晶化特性进行了研究.通过原子力显微镜(AFM)和Raman光谱技术对退火前后薄膜样品的形貌、结构及物相特性进行了分析.结果表明,选用合适的激光能量采用激光退火技术能够实现a-SiC薄膜的纳米晶化.退火薄膜中的纳米颗粒大小随着激光能量密度的增加而增大;Raman谱分析结果显示了退火后的薄膜的晶态结构特性并给出了伴随退火过程存在的物相分凝现象.根据以上结果并结合激光退火特性,对a-SiC的脉冲激光晶化机理进行了讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩理	河北大学物理科学与技术学院	39	204	8.0	11.0
2	傅广生	河北大学物理科学与技术学院	184	817	13.0	17.0
3	于威	河北大学物理科学与技术学院	91	346	9.0	13.0
4	何杰	河北大学物理科学与技术学院	5	37	4.0	5.0
5	孙运涛	河北大学物理科学与技术学院	6	42	4.0	6.0
6	朱海丰	河北大学物理科学与技术学院	6	28	3.0	5.0