适用于沉积工艺的真空技术

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 沉积 工艺 真空技术 干泵
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 成膜技术
• 页码范围: 15-17
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.55
• 字数: 1823字
• 语种: 中文

摘要

半导体生产中的薄膜沉积工艺通常对真空泵的要求很严格.在该工艺中高故障和停机现象较为普遍.iH真空泵是特别为应付恶劣的薄膜工艺环境所设计.阐述了iH系列在干泵在LPCVK氮化硅工艺应用中的成功表现.