MOCVD系统中压力和压差控制技术研究

• 作者: 江风益 王慧 蒲勇
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: MOCVD 压力 压差 控制技术
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 所属期刊栏目: 新设备与新技术
• 页码范围: 66-68
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 1182字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.07.013

摘要

介绍了压力和压差控制在MOCVD系统[1]中的作用,比较了两种不同的压力和压差控制技术的优缺点,解析了国际上此类设备中压力和压差控制有关技术特点,以及用国产质量流量控制器和压力、压差传感器为主要部件研制的压力、压差控制器,在ZnO生长的MOCVD设备中良好的效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	江风益	南昌大学材料科学研究所	60	527	12.0	19.0
2	蒲勇	南昌大学材料科学研究所	15	108	6.0	10.0
3	王慧	南昌大学材料科学研究所	6	5	1.0	2.0