褶合光谱法考察羟自由基清除剂对紫外照射致DNA变异的作用

• 作者: 杨根金 林培英 肖杰 陆峰
• 来源期刊: 光谱学与光谱分析
• 学科: 医学
• 关键词: 褶合光谱法 DNA变异 紫外线照射 羟自由基清除剂
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 页码范围: 82-84
• 页数: 3页
• 分类号: R917
• 字数: 1973字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-0593.2004.01.023

摘要

采用褶合光谱法考察了紫外线UV-A, UV-B, UV-C导致的DNA变异, 并以褶合光谱差谱值的形式量化表达DNA细微突变的程度. DNA受UV-A, UV-B, UV-C作用后, 差谱值依次增大, 表明变异程度增大; 添加二甲亚砜、甘露醇等羟自由基清除剂以后, 在UV-A, UV-B, UV-C作用下, 差谱值有不同程度的降低, 呈现一定的抑制变异作用. 尽管DNA的变异程度有所区别, 但它们的差谱点分布区域相似, 提示UV-A, UV-B, UV-C导致的DNA变异类型可能相似, 两种羟自由基清除剂抑制DNA变异的作用机制也可能相似.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨根金	第二军医大学药学院	38	1085	19.0	32.0
2	陆峰	第二军医大学药学院	87	895	18.0	25.0
3	林培英	第二军医大学药学院	19	401	11.0	19.0
4	肖杰	第二军医大学药学院	7	72	3.0	7.0