不同氧分压下ZrO2薄膜特性研究

• 作者: 张东平 范正修 邵建达 邵淑英 高卫东 齐红基
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学薄膜材料 氧分压 表面粗糙度 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 光束传输与控制,材料、薄膜及元器件
• 页码范围: 519-521
• 页数: 3页
• 分类号: O484.5
• 字数: 1987字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.z1.172

摘要

在不同的氧分压下用电子束热蒸发的方法生长了氧化锆薄膜.通过扫描探针显微镜、分光光度计、X射线衍射、激光损伤阈值(LIDT)测量等,研究了沉积中氧分压对ZrO2薄膜的微结构、光学性质、激光损伤阈值等的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	203	2312	23.0	32.0
3	张东平	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	8	84	5.0	8.0
4	齐红基	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	40	299	11.0	16.0
5	邵淑英	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	18	309	9.0	17.0
6	高卫东	中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心	19	434	11.0	19.0