脉冲激光法外延生长新型锰氧化物YNi0.5Mn0.5O3薄膜

• 作者: C.Moure M.Guilloux-Viry O.Pena 马衍伟
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 外延生长 脉冲激光法 YNi0.5Mn0.5O3薄膜 磁特性
• 年，卷（期）: 2004,（z2）
• 所属期刊栏目: 薄膜材料与表面技术
• 页码范围: 466-468
• 页数: 3页
• 分类号: TF8
• 字数: 1672字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2004.z2.104

摘要

利用脉冲激光法在SrTiO3衬底上外延生长了新型锰氧化物Yni0.5Mn0.5O3薄膜.通过实验发现,在STO衬底上生长的薄膜均为高度一致的(00l)取向、外延生长的单相膜.薄膜的居里转变温度等值于相应块材的温度;薄膜和块材的磁特性明显不同,薄膜呈现一种典型的团簇玻璃特征.此外,探讨了这一薄膜的外延生长与其磁特性的关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马衍伟	中国科学院电工研究所应用超导重点实验室	45	472	10.0	21.0