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摘要:
对强流氧离子注入机的注入靶室进行分析探讨,对影响均匀性指标的靶盘结构、束的形状和束扫描注入方式进行研究,结合主体硬件,增加晶片自旋装置和采用新的扫描方式,来提高注入均匀性指标.
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文献信息
篇名 强流氧离子注入机注入均匀性分析及提高
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 注入机 离子束 均匀性 变速扫描 SOI
年,卷(期) 2005,(4) 所属期刊栏目 IC制造与设备
研究方向 页码范围 48-52,59
页数 6页 分类号 TN305.3
字数 4033字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2005.04.012
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 贾京英 10 25 3.0 4.0
2 刘咸成 4 4 1.0 2.0
3 唐景庭 2 0 0.0 0.0
传播情况
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引文网络
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2005(0)
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研究主题发展历程
节点文献
注入机
离子束
均匀性
变速扫描
SOI
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
31
总被引数(次)
10002
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