异质外延MgO/SrTiO3薄膜中界面应力研究

• 作者: 姬洪 张鹰 李言荣 李金隆 艾万勇 蒋书文 郑亮 陈寅
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: MgO/SrTiO3 薄膜 异质外延 应力 反射高能电子衍射 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 10-13
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1|O484.5
• 字数: 1639字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.01.003

摘要

本文利用激光分子束外延(LMBE)技术在SrTiO3(100)单晶基片上外延生长MgO薄膜,同时又在MgO(100)单晶基片上外延生长SiTiO3(STO)薄膜.通过反射高能电子衍射(RHEED)仪原位实时监测薄膜生长,研究薄膜的生长过程.并结合X射线衍射(XRD)仪来分析在不同的生长条件下,不同应力对薄膜外延生长的影响.在压应力情况下,MgO薄膜在STO基片上以单个晶胞叠层的方式生长,即以"Cubic on Cubic"方式进行外延;在张应力情况下,由于膜内位错较多,STO薄膜在MgO基片上以晶胞镶嵌的方式进行生长,即以"Mosaic"结构进行外延;提高生长温度,可以减少膜内位错,提高外延质量,使STO薄膜在MgO基片上以较好的层状方式外延生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张鹰	电子科技大学微电子与固体电子学院	47	169	7.0	9.0
2	李金隆	电子科技大学微电子与固体电子学院	12	66	5.0	7.0
3	姬洪	电子科技大学微电子与固体电子学院	20	67	4.0	7.0
4	蒋书文	电子科技大学微电子与固体电子学院	30	197	7.0	12.0
5	陈寅	电子科技大学微电子与固体电子学院	3	10	3.0	3.0
6	郑亮	电子科技大学微电子与固体电子学院	1	3	1.0	1.0
7	艾万勇	电子科技大学微电子与固体电子学院	2	8	2.0	2.0