透镜形量子点的盖层和高宽比对应变场分布的影响

• 作者: 俞重远 刘玉敏 杨红波 黄永箴
• 来源期刊: 高技术通讯
• 学科: 物理学
• 关键词: 应变 量子点 自组织 生长停顿 应变释放 纳米材料
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 新材料技术
• 页码范围: 57-61
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 3541字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-0470.2005.10.012

摘要

对透镜形自组织生长量子点的应变分布进行了研究.主要分析了透镜形状的量子点形貌对应变分布的影响,针对开放量子点(无盖层)和非开放量子点(有盖层)情况分别进行了讨论.结果表明,无论有无盖层,横向大尺寸量子点内部的应变分布趋向于均匀,无盖层量子点与有盖层情况相比内部应变释放程度大,甚至在量子点顶部有应变过释放情况,这一现象可以定性解释量子点生长的高度受限、量子点后续生长中出现的量子点塌陷和盖层生长停顿后产生的量子点"挖空"现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄永箴	中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室	47	229	9.0	12.0