纳米级电子束曝光机用图形发生器

• 作者: 刘伟 方光荣 顾文琪
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 图形发生器 电子束曝光机 纳米
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 1-5,16
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2120字
• 语种: 中文

摘要

为满足纳米级电子束曝光系统的要求,设计了高速图形发生器,该图形发生器包括硬件和软件两部分.硬件方面主要是利用高性能数字信号处理器(DSP)将要曝光的单元图形拆分成线条和点,然后通过优化设计的数模转换电路,将数字量转化成高精度的模拟量,驱动扫描电镜的偏转器,实现电子束的扫描.通过图形发生器还可以对标准样片进行图像采集以及扫描场的校正.配合精密定位的工件台和激光干涉仪,还可以实现曝光场的拼接和套刻.利用配套软件可以新建或导入通用格式的曝光图形,结果表明,该图形发生器能够与整个纳米级电子束曝光系统协调工作,刻画出纳米的图形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘伟	中国科学院电工研究所	422	5903	37.0	59.0
2	方光荣	中国科学院电工研究所	32	154	7.0	10.0
3	顾文琪	中国科学院电工研究所	53	189	8.0	11.0