纳米电子束曝光

• 作者: 刘明 张建宏 王云翔 陈宝钦
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束曝光系统 分辨率 套刻精度
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 24-28
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2136字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2003.01.005

摘要

JEOL JBX-5000LS是矢量扫描的电子束曝光机.系统采用LaB6灯丝,可以工作在25kV和50kV的加速电压下.对该系统的分辨率、稳定性、场拼接和套刻精度进行了系列研究,得到了分辨率为30nm的图形,图形的套刻精度也优于40nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘明	中国科学院微电子中心	207	1983	20.0	38.0
2	陈宝钦	中国科学院微电子中心	50	361	11.0	16.0
3	王云翔	中国科学院微电子中心	8	36	5.0	5.0
4	张建宏	中国科学院微电子中心	5	56	3.0	5.0