用AES研究铝薄膜与基体金属铀之间的界面反应

• 作者: 刘柯钊 周韦 杨江荣 肖红 蒋春丽 陆雷
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 铀 铝薄膜 界面 俄歇电子能谱
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 燃料、元件及分析测试
• 页码范围: 151-155
• 页数: 5页
• 分类号: O657.62
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2005.z1.032

摘要

在俄歇电子能谱(AES)仪超高真空分析室中利用氩离子溅射沉积方法将Al沉积在U基体上.对不同Al沉积量的铀表面实时采集AES和低能电子损失谱(EELS),以研究沉积Al原子与U表面原子间的相互作用以及Al膜的生长过程.将实验样品进行退火处理后进行深度剖析.研究结果表明:Al沉积在U基体上是以岛状方式生长的;室温下,沉积Al原子与U表面原子间存在界面作用,两者在界面处相互扩散形成了合金相.退火促使界面扩散速率增大,界面结合力增强,并有可能形成化合物UAlx.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周韦		10	24	3.0	4.0
2	刘柯钊		36	150	8.0	9.0
3	肖红		26	59	5.0	6.0
4	蒋春丽		15	67	6.0	7.0
5	陆雷		19	54	5.0	6.0
6	杨江荣		20	81	6.0	8.0