溶液温度和衬底对电化学沉积Cu2O薄膜形貌的影响

• 作者: 余颖 唐一文 张丽莎 张新 贾志勇 陈志钢
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化亚铜 电沉积 溶液温度 衬底
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 570-573
• 页数: 4页
• 分类号: O614.121|O649.4
• 字数: 2725字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2005.04.025

摘要

以透明导电玻璃(TCO)、纳米TiO2/TCO、CNTs/TCO、铜片分别为工作电极,用简单铜盐通过阴极还原制备了Gu2O薄膜,并研究了溶液温度和衬底对电化学沉积Gu2O薄膜形貌的影响.结果表明:以TCO和铜片为衬底时,由于表面微粒为微米级,不管溶液温度高低,只能得到微米级的Cu2O薄膜;以纳米TiO2/TCO和CNTs/TCO为衬底,池温高于30℃只能得到微米级的Cu2O薄膜,而池温降到0℃时,都可得到纳米Cu2O.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余颖	华中师范大学纳米科技研究院	30	566	15.0	23.0
2	唐一文	华中师范大学纳米科技研究院	22	257	8.0	16.0
3	张新	华中师范大学纳米科技研究院	15	99	4.0	9.0
4	贾志勇	华中师范大学纳米科技研究院	4	113	4.0	4.0
5	陈志钢	华中师范大学纳米科技研究院	5	124	5.0	5.0
6	张丽莎	华中师范大学纳米科技研究院	6	187	6.0	6.0