高稳定Ni-Cr薄膜电阻的研究

• 作者: 孙承松 张丽娟 王芳 蔡震 陈桂梅
• 来源期刊: 微处理机
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Ni-Cr薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 大规模集成电路设计、制造与应用
• 页码范围: 7-8
• 页数: 2页
• 分类号: TN4
• 字数: 1747字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2279.2005.04.003

摘要

本文主要介绍采用磁控溅射制备 Ni-Cr薄膜的方法,并通过光刻、腐蚀,找到最佳的腐蚀条件,得到符合要求的Ni-Cr薄膜,并把它应用到具体电路中,取得满意的效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙承松	沈阳工业大学电子科技教研室	17	134	6.0	11.0
2	王芳		3	11	2.0	3.0
3	张丽娟	沈阳工业大学电子科技教研室	17	85	5.0	9.0
4	蔡震		2	9	1.0	2.0
5	陈桂梅		3	11	2.0	3.0