在CH4-H2微波等离子体中添加H2O对大面积金刚石膜生长的研究

• 作者: 刘远勇 汪建华 满卫东 王传新 王升高 马志斌
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 微波 化学气相沉积 生长
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 16-19
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|TQ163
• 字数: 2848字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2005.06.005

摘要

用自制的微波功率为5千瓦的微波等离子体(MWCVD)装置,研究了在CH4-H2反应气体中添加安全廉价的H2O代替O2金刚石膜的沉积状况,以H2/CH4/H2O作为反应气体,成功制备了厚度达到1.1毫米,面积达20平方厘米的金刚石厚膜.在沉积温度为700-900℃范围内,研究了CH4/H2=3.0%,H2O/H2=0.0-2.4%范围内金刚石膜沉积的速率,均匀性,形貌以及质量的变化规律.研究结果表明,在反应气体CH4/H2中添加适量H2O能降低金刚石膜中非金刚石碳的含量,提高金刚石膜厚度的均匀性,并对反应气体中添加H2O对CVD金刚石膜生长影响机理进行了阐述.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王升高	武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室	35	104	5.0	8.0
2	王传新	武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室	34	121	6.0	8.0
4	汪建华	武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室	123	698	14.0	19.0
5	马志斌	武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室	58	189	7.0	10.0
6	满卫东	武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室	45	370	11.0	16.0
12	刘远勇		1	18	1.0	1.0