PZT厚膜拾振器微图形化工艺研究

• 作者: 刘悦 刘景全 徐峥谊 方华斌 王莉 蔡炳初 陈迪
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 拾振器 PZT厚膜 Pt/Ti电极 湿法化学刻蚀 干法刻蚀
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 微机械加工技术
• 页码范围: 48-51
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 1990字
• 语种: 中文

摘要

采用sol-gel方法制备了PZT铁电厚膜,构成了SiO2/Si/SiO2/Ti/Pt/PZT/Ti/Pt形式的拾振器敏感元结构.基于半导体光刻技术,通过干法刻蚀电极和化学湿法刻蚀PZT厚膜等技术,成功地实现了敏感元的微图形化,解决了Pt/Ti下电极刻蚀难、制作的PZT膜形貌不好和上电极容易起壳等问题,为基于PZT厚膜的高性能拾振器的研制打下了良好的基础.