光助芬顿法降解印制电路板脱膜废液

• 作者: 孙长顺 王艳芳 薛峰 郭新超 金奇庭
• 来源期刊: 重庆建筑大学学报
• 学科: 地球科学
• 关键词: UV/Fenton 均相光催化 脱膜废液
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 城市建设与环境工程
• 页码范围: 91-95
• 页数: 5页
• 分类号: X703.1
• 字数: 4018字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-4764.2005.05.020

摘要

研究表明,采用UV/Fenton均相光催化氧化体系降解印制电路板脱膜废液效果好.在H2O2用量为1倍理论药量,Fe":H2O2(摩尔比)=1:20,光照时间为80 min,脱膜废液COD去除率可达80%.光助芬顿体系降解脱膜废液的诸多影响因素中,重要性次序依次为H2O2投药比＞FeSO4/H2O2的比值＞光照时间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙长顺	西安建筑科技大学环境与市政工程学院	10	102	7.0	10.0
2	金奇庭	西安建筑科技大学环境与市政工程学院	84	2073	24.0	42.0
3	郭新超	西安建筑科技大学环境与市政工程学院	31	401	10.0	19.0
4	薛峰		7	39	4.0	6.0
5	王艳芳	西安建筑科技大学环境与市政工程学院	3	22	2.0	3.0