脉冲激光沉积技术制备Li2O-V2O5-SiO2薄膜

• 作者: 文九巴 杨继斌 秦启宗 赵胜利
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 电解质 Li2O-V2O5-SiO2 薄膜 锂电池 PLD
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 16-19
• 页数: 4页
• 分类号: TM911|O614.111
• 字数: 3416字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-6264.2005.06.005

摘要

采用355nm脉冲激光沉积(PLD)技术,以Li6.16V0.61Si0.39O5.36为靶材制备Li2O-V2O5-SiO2薄膜,考察了反应气氛压强、激光能量密度、基片温度等对薄膜结构和性质的影响.结果表明,随着基片温度升高及激光能量密度增大Li2O-V2O5-SiO2薄膜更致密,且室温离子电导率随之增大.在O2压强6.7Pa、激光能量密度12J/cm2和基片温度300℃条件下制备了室温离子电导率为4×10-7S/cm、离子迁移数接近1.O(tion＞99.99%)、厚度均匀、无针孔和裂缝的非晶态Li2O-V2O5-SiO3薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	文九巴	河南科技大学材料学院	221	1779	19.0	31.0
2	秦启宗	复旦大学激光化学研究所	29	260	10.0	15.0
3	赵胜利	河南科技大学材料学院	60	307	9.0	13.0