改造国产ICP进行低温刻蚀

• 作者: 任泰安 吕春红
• 来源期刊: 河南机电高等专科学校学报
• 学科: 工学
• 关键词: 感应耦合等离子体(ICP) 低温 钝化 机理
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 机电工程理论与应用
• 页码范围: 1-2
• 页数: 2页
• 分类号: TN405
• 字数: 1405字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-2093.2005.06.001

摘要

低温刻蚀被用来进行硅微深孔加工.文中介绍了感应耦合等离子体(ICP) 刻蚀原理,通过对国产ICP进行改造,在SF6/O2气体条件下进行低温刻蚀,利用低温钝化机理控制工艺,减少器件损伤.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕春红		24	68	6.0	8.0
2	任泰安		16	49	4.0	7.0