斜角入射沉积法制备渐变折射率薄膜的理论探讨

• 作者: 沈自才 王英剑 范正修 邵建达
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 斜角入射沉积 渐变 填充密度
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 核物理学
• 页码范围: 3069-3074
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 4024字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.07.018

摘要

从理论上分析了单一膜料倾斜入射沉积时的折射率与填充密度的关系,给出了三种不同的表达式;然后从正变和负变、完整周期和存在半周期以及不同的周期数等几个方面探讨了膜层的填充密度按照线性变化时的渐变折射率薄膜的光学特性,并将折射率的不同理论表达式对光学特性的影响进行了对比,最后讨论了单一膜料倾斜入射沉积渐变折射率薄膜的方法、填充密度线性变化时的渐变折射率薄膜的应用及制备中需要进一步解决和处理的问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	王英剑	中国科学院上海光学精密机械研究所	21	254	11.0	15.0
4	沈自才	中国科学院上海光学精密机械研究所	15	140	8.0	11.0