电弧离子镀TiN薄膜中的缺陷及其形成原因

• 作者: 刘正义 史新伟 邱万奇
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 TiN薄膜 缺陷 磁过滤器
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 技术应用
• 页码范围: 43-46
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|TG115.21
• 字数: 2795字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2006.01.011

摘要

分析了电弧离子镀(AIP)TiN薄膜中的主要缺陷-熔滴、孔洞和疏松等.结果表明:这些缺陷存在于晶内、晶界或者贯穿于整个薄膜;缺陷的存在极大地影响了薄膜的性能;缺陷密度与镀膜方法及具体的工艺参数有密切关系;使用磁过滤器镀制薄膜可显著减少上述缺陷,从而提高薄膜的各种性能.认为使用磁过滤器镀制TiN及其各种复合或多层薄膜是一种切实有效的方法,是今后制备高性能TiN及其复合膜的发展方向,另外,缩短脉冲电弧在高值时的时间,用人工来减少薄膜缺陷也是一种行之有效的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱万奇	华南理工大学机械工程学院	67	339	9.0	15.0
2	刘正义	华南理工大学机械工程学院	91	1225	21.0	32.0
3	史新伟	郑州大学材料物理教育部重点实验室	28	177	7.0	12.0