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IGCT器件制造中的离子注入扩散技术
IGCT器件制造中的离子注入扩散技术
作者:
张明
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
IGCT
离子注入扩散
杂质分布图
摘要:
概述了电力电子器件中的扩散方法,提出了采用离子注入的试验方案,经试验得到了离子注入扩散的规律.在集成门极换向晶闸管(IGCT)器件的阴极端成功实现了硼、铝双杂质离子注入扩散层的正确分布,从而证实了该方法的可行性.
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内容分析
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文献信息
篇名
IGCT器件制造中的离子注入扩散技术
来源期刊
变流技术与电力牵引
学科
工学
关键词
IGCT
离子注入扩散
杂质分布图
年,卷(期)
2006,(5)
所属期刊栏目
材料·器件
研究方向
页码范围
23-25,45
页数
4页
分类号
TN305.3
字数
2735字
语种
中文
DOI
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作者信息
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姓名
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G指数
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张明
株洲南车时代电气股份有限公司电力电子事业部
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被引次数趋势
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IGCT
离子注入扩散
杂质分布图
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
变流技术与电力牵引
主办单位:
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
邮发代号:
创刊时间:
语种:
chi
出版文献量(篇)
740
总下载数(次)
1
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2809
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