电子回旋共振等离子体辅助溅射沉积锂磷氧氮薄膜

• 作者: 任兆杏 傅正文 李驰麟 舒兴胜
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 锂磷氧氮薄膜 溅射沉积 电子回旋共振 锂离子传导率
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 193-198
• 页数: 6页
• 分类号: TM912
• 字数: 2469字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2006.01.032

摘要

用电子回旋共振(ECR)等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮(LiPON)薄膜.X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、紫外可见吸收光谱等手段表征了在不同ECR功率辅助下沉积的薄膜.结果显示,ECR等离子体对磁控溅射沉积薄膜的生长有明显的影响,能够提高N的插入量,改变薄膜的组成与结构.但是过高的ECR功率反而易破坏薄膜的结构,不利于N的插入.最佳的实验条件是在ECR 200W辅助下沉积的LiPON薄膜,它的电导率约为8×10-6S/cm.讨论了ECR对沉积LiPON薄膜的N插入机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	舒兴胜	中国科学院等离子体物理研究所	21	149	7.0	11.0
2	任兆杏	中国科学院等离子体物理研究所	20	209	9.0	14.0
3	李驰麟	复旦大学化学系激光化学研究所上海市分子催化和功能材料重点实验室	5	35	4.0	5.0
4	傅正文	复旦大学化学系激光化学研究所上海市分子催化和功能材料重点实验室	23	249	10.0	15.0