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摘要:
为了制作平面变线密度光栅,满足线密度变化的要求,采用两个点光源和辅助透镜对基底曝光.编写了第一代和第二代光路的计算程序,计算出拍摄光路的几何位置参量,依据实际情况选择光路.提出了在线检测波前的方法,将辅助的标准光栅放在基底的位置上,入射光被标准光栅衍射,衍射光在光栅表面的干涉条纹反映了入射光的波前分布.采用数码相机和辅助镜拍摄干涉条纹,编写条纹分析程序,根据条纹调节元件的位置,直到入射波前满足要求后,对涂有光刻胶的基底曝光,制作出了原型的变线密度光栅.波前检测方法也可以用于其他全息光栅的制作中.
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文献信息
篇名 平面变线密度光栅的制作和波前检测
来源期刊 中国激光 学科 物理学
关键词 仪器 变线密度光栅 全息 制作 波前
年,卷(期) 2006,(1) 所属期刊栏目 全息技术与信息处理
研究方向 页码范围 72-75
页数 4页 分类号 O436.1
字数 3394字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0258-7025.2006.01.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 朱向冰 合肥工业大学仪器仪表学院 80 266 8.0 12.0
4 陈瑾 安徽师范大学物理系 31 157 7.0 12.0
5 邓善熙 合肥工业大学仪器仪表学院 81 951 19.0 25.0
6 付绍军 中国科学技术大学国家同步辐射实验室 69 435 12.0 15.0
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中国激光
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31-1339/TN
大16开
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4-201
1974
chi
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