1.55μm超辐射发光管端面减反射膜的研究

• 作者: 刘德明 聂明局 胡必春
• 来源期刊: 光学仪器
• 学科: 物理学
• 关键词: 减反射膜 挡板调制法 超辐射发光管
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜制备与特性测试
• 页码范围: 159-163
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2533字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5630.2006.04.033

摘要

减反射膜层折射率和厚度的精密监控是超辐射发光管的关键技术.分析了超辐射发光管端面减反射膜的四种膜系,提出了监控薄膜厚度的挡板调制、高级次过正极值法.采用该法制备超低剩余反射膜的实验表明:单面镀膜后,砷化镓基片的剩余反射率达到0.04%;管芯的反馈谐振被抑制,出现超辐射现象,峰值波长从1610nm移动到1560nm,蓝移约60nm,光谱纹波小于0.3dB.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘德明	华中科技大学光电子工程系	236	1645	17.0	27.0
2	聂明局	华中科技大学光电子工程系	8	16	3.0	4.0
3	胡必春	华中科技大学光电子工程系	11	61	5.0	7.0