CMP过程芯片表面氧化膜生成速度影响因素的分析

• 作者: 蒋建忠 赵永武
• 来源期刊: 现代制造工程
• 学科: 工学
• 关键词: 机械化学抛光(CMP) 氧化膜 数学模型 粒度分布
• 年，卷（期）: 2006,（10）
• 所属期刊栏目: 制造工艺/工艺装备
• 页码范围: 51-55
• 页数: 5页
• 分类号: TG115.5+8|O484.4
• 字数: 4540字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-3133.2006.10.019

摘要

根据理论和试验分析,将机械化学抛光(CMP)过程分成两个阶段:化学作用主导阶段和机械作用主导阶段,并从机械作用角度导出CMP过程两个阶段芯片表面材料去除率的数学模型,模型全面地考虑了抛光盘特性参数(弹性模量、硬度、表面粗糙度峰的尺寸分布)、CMP工作参数(压力和抛光速度)、抛光液中磨粒的机械作用和氧化剂种类、氧化剂浓度等化学作用的影响.然后根据这两个阶段的平衡点导出定量描述芯片表面氧化膜生成速度的数学模型.详细分析机械作用因素(磨粒的浓度、磨粒的粒度分布特性)、化学作用因素(抛光液中氧化剂种类、浓度)以及磨粒/芯片/抛光盘的材料特性参数对芯片表面氧化膜生成速度的影响规律.该CMP过程芯片表面氧化膜生成速度定量模型的导出,对进一步深入研究CMP材料去除机理和更加准确地控制CMP过程,具有一定的指导作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋建忠	江南大学机械工程学院	17	305	8.0	17.0
2	赵永武	江南大学机械工程学院	117	687	12.0	21.0