光刻、OPC与DFM

• 作者: 翁寿松
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 芯片设计 光刻 光学邻近效应校正 可制造性设计 分辨率增强技术
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 专题报道
• 页码范围: 18-22
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3837字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2006.04.007

摘要

讨论了90/65 nm芯片设计采用可制造性设计的必要性和优势.介绍了以RET/OPC为核心的可制造性设计.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翁寿松		95	534	13.0	18.0