掺硼浓度对金刚石薄膜电极电化学性能影响的研究

• 作者: 曹华珍 曹帅 胡晓君 郑国渠
• 来源期刊: 高校化学工程学报
• 学科: 化学
• 关键词: 金刚石薄膜电极 硼掺杂 循环伏安法 交流阻抗法
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 反应工程
• 页码范围: 932-937
• 页数: 6页
• 分类号: O613.7|O646.54
• 字数: 3152字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1003-9015.2006.06.015

摘要

以不同掺硼浓度的金刚石薄膜作为电极材料,采用循环伏安法和交流阻抗法研究了电极的电化学性能,着重分析了掺硼浓度对金刚石电极电化学性能的影响.结果表明,随着掺硼浓度的增加,电极的电势窗口略微变小,背景电流也随之变大.在铁氰化钾电解液中,未掺杂金刚石薄膜的电极表面进行的不是可逆反应,而硼掺杂金刚石膜电极表面在反应过程中有着良好的活性和准可逆性;并且随着掺硼浓度的增加,其动力学过程主要受扩散过程控制.金刚石膜电极对苯酚模拟有机污染物的循环伏安实验表明,所考察的三个硼浓度不断增加的电极的氧化峰电流密度分别为0.8,1.9和5.1 mA(cm(2,说明在本实验范围内,金刚石膜电极对苯酚催化氧化作用随着掺硼浓度的增加而增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑国渠	浙江工业大学化学工程与材料学院	67	444	12.0	17.0
2	曹华珍	浙江工业大学化学工程与材料学院	53	347	10.0	16.0
3	胡晓君	浙江工业大学化学工程与材料学院	15	47	3.0	6.0
4	曹帅	浙江工业大学化学工程与材料学院	1	29	1.0	1.0