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摘要:
介绍了一种可应用于X射线Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜的光学元件--X射线超反射镜.选用的W和B4C作为镀膜材料,膜对数为20,采用单纯型调优的方法实现了X射线超反射镜设计,用磁控溅射的方法在Si基片上完成了W/B4C X射线超反射镜的制备.采用高分辨率X射线衍射仪(8 keV)测量了X射线超反射镜的反射特性.制备的X射线超反射镜在掠入射角分别为1.052°和1.143°处,反射角度带宽为0.3°,反射率达到20%,可满足KB型显微镜的要求.
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文献信息
篇名 X射线Kirkpatrick-Baez显微镜用超反射镜的研制
来源期刊 强激光与粒子束 学科 物理学
关键词 多层膜 X射线超反射镜 KB型显微镜 磁控溅射 反射
年,卷(期) 2006,(7) 所属期刊栏目 ICF与激光等离子体
研究方向 页码范围 1095-1098
页数 4页 分类号 O434|O484.41
字数 3816字 语种 中文
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研究主题发展历程
节点文献
多层膜
X射线超反射镜
KB型显微镜
磁控溅射
反射
研究起点
研究来源
研究分支
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相关学者/机构
期刊影响力
强激光与粒子束
月刊
1001-4322
51-1311/O4
大16开
四川绵阳919-805信箱
62-76
1989
chi
出版文献量(篇)
9833
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7
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61664
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