掺锡氧化铟基底上锆钛酸铅铁电薄膜的制备与表征

• 作者: 刘爽 吴亚雷 文莉 褚家如 许晓慧 黄文浩
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 铁电薄膜 电学性能 掺锡氧化铟 疲劳特性
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 精密加工
• 页码范围: 327-330
• 页数: 4页
• 分类号: TNL6
• 字数: 2522字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2007.04.023

摘要

用溶胶.凝胶工艺在掺锡氧化铟导电氧化物基底上制备了锆钛酸铅(PZT)铁电薄膜.采用快速热处理工艺改进铁电薄膜的晶格取向,用X射线衍射仪分析了薄膜的结晶取向,分别基于Al/PZT/ITO,ITO/VZT/ITO电容结构利用Sawyer-Tower电路原理测试了薄膜的铁电性能.结果表明,在磁控溅射法生长的ITO表面能够制备出具有钙钛矿结构的(110)取向的FZT铁电薄膜,所得薄膜的相对介电常数达到1000,剩余极化强度P1达到和Pt基底上接近的15.2 uc/cm2,矫顽场强Ec达到70.8 kV/cm.并且利用TF Analyzer 2000铁电分析仪测试了PZT铁电薄膜的疲劳特性,发现ITO底电极上PZT薄膜经过108次反转后,剩余极化强度仅下降15%.研究表明:磁控溅射法制备的掺锡氧化铟透明导电薄膜ITO可以作为铁电薄膜的上下电极.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	褚家如	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	76	566	14.0	19.0
2	黄文浩	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	88	768	14.0	23.0
3	文莉	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	18	49	4.0	6.0
4	吴亚雷	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	12	53	5.0	6.0
5	刘爽	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	27	238	9.0	15.0
6	许晓慧	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	13	75	6.0	8.0